EUV光刻机制造难度大曝光!外媒再次豪言:全球仅ASML能造

【12月3日讯】相信大家都知道,自从芯片工艺进入到7nm工艺时代以后,需要用到一台顶尖的EUV光刻机设备,才可以制造7nm EUV、5nm等先进制程工艺的芯片产品,但就在近日,又有外媒豪言:这种顶尖的EUV极紫外光刻机,目前全球只有荷兰光刻机巨头ASML能造,对此也有很多网友们感觉到非常疑惑,为何只有荷兰ASML可以造顶尖EUV光刻机设备呢?像我国的上海微电子、日本的索尼、佳能都造不出来吗?

从目前顶尖的EUV极紫外光刻机设备,采用是极紫外线,波长为13.5纳米,要知道在目前可见光中的紫光波长最短也只有380-450纳米,所以想要获得13.5纳米的“极紫外线”,就需要经过特殊工艺处理,而ASML公司的做法就是,直接将高纯度的锡加热到熔化,然后再喷射到真空中直接形成锡珠,然后再通过激光照射这些锡珠,让锡珠变成粉饼状,然后还需要用到高功率的二氧化碳激光照射去照射这些“粉饼”,才可以释放出极波长为13.5纳米的紫外线,但就是这样一套极紫外线生成的解决方案,都有多家公司提供合成,例如ASML公司只提供了锡珠喷射方案,而高功率二氧化碳激光方案等整体方案则由德国的TRUMPF公司提供;

看到这里,或许很多网友们会说:“有了极紫外线不就可以生产芯片了吗?” 但实际上还需要对这些产生的极紫外线进行下一步处理,让这些从随机向四面发射极紫外线收集起来,转变为方向一致的极紫外线,而这里又需要使用到布拉格反射器,直接将向四面发射的极紫外光源集合起来,汇聚成一束强的光线用于芯片光刻,而在这种布拉格反射器又是由卡尔蔡司(Zeiss SMT)所提供,在全球范围内,还没有找到超越卡尔蔡司(Zeiss SMT)第二家公司。

可以说一整台EUV极紫外光刻机设备中,拥有高达3万多个零部件,他们都来自于全球各国的顶尖技术或者是设备,当然即便是你购买到了ASML公司的极紫外光刻机,如果没有ASML公司的帮助,你也无法正常安装使用,因为EUV极紫外光刻机设备需要在一个清洁度非常高的车间中,完成整个光刻机设备的安装调试,才能够达到7nm EUV、5nm工艺芯片工艺的精度,看到这里,也就不难理解, 为何只有荷兰ASML公司能够拥有EUV光刻机技术了吧,因为荷兰ASML公司也是整合了全球各国顶尖的技术;

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本文源自头条号:搞机二师兄

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