ASML突然宣布:完成1nm光刻机设计!国产光刻机追得上吗?

在电子产品行业中,有一句话叫做“买新不买旧”,为什么?因为现在电子产品的更新换代实在是太快了!以手机为例,去年的旗舰手机到今年性能就已大幅落后,而前年的旗舰手机则走到了被市场淘汰的边缘。

而电子产品更新换代如此之快的原因,就在于芯片升级的速度非常快!所以在开始本期的正文之前,需要先和大家谈一谈有趣而残酷的“摩尔定律”。

“摩尔定律”被科学界尊为【计算机第一定律】,大概指的就是:集成电路上可以容纳的晶体管数目在大约每经过24个月便会增加一倍。换言之,处理器的性能每隔两年翻一倍。

这也就是为什么,去年的手机今年就落后了,前年的手机今年就要淘汰。

但这个定律不仅注定了电子产品更新的速度很快,也同样指出一个残酷的事实:西方半导体技术发展飞快,我们可能真的难以追赶!

据报道,就在我们全力追赶突破14nm光刻机的时候,ASML却突然宣布:已完成1nm光刻机设计。

据介绍,ASML已经完成了作为NXE:5000系列的高NA EUV曝光系统的基本设计,虽然商业化计划在2022年左右。但ASML的进度 却再一次惊讶了全球科技界,他们将“摩尔定律”发展到极致,同时也让其竞争对手“感到绝望”。

ASML完成1nm光刻机设计,也正意味着他们即将再次突破自己达到的光刻机天花板。

但与此同时,咱们却还在为了14nm光刻机而奋斗,如果要形象的比喻我们和ASML的差距,我想他们应该是25岁的青壮年,但咱们还是蹒跚学步的小孩童。

而根据摩尔定律来看,就算咱们在两年后突破到14nm、7nm,可人家已经有了3nm甚至是1nm光刻机。那再过两年、四年之后呢?

客观来讲,咱们如果要实现追赶,就必须要突破“摩尔定律”的速度!我们要做的不仅仅是发展光刻机,要做到的其实是快速发展光刻机!

这虽然很难,可咱们的科研团队又何尝不是一直在创造奇迹?从两弹一星到北斗导航,西方认为的各种“不可能”都被我们变成了可能!那下一个10年的“中国速度”会出现在光刻机领域吗?

本文源自头条号:吴拿科技王

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