中国用实力说话,国产光刻机成功问世,美国大跌眼镜:这也太快了

以前,拥有光刻机核心技术的一些国家称,中国永远生产不了高端光刻机。但是最近,国产光刻机成功问世,中国用实力说话,甚至美国也感到震惊:中国的研发速度太快了。

其实,中国很早就有自己的光刻机,但只能生产28nm工艺的芯片,一直没有取得突破,无法满足华为手机需要的7nm芯片。因此,国内公司开始加大研发力度,想攻克高端光刻机技术,终于看见了希望的曙光。现在,来自上海的一家微电子公司在高端光刻机上取得了突破,他们研发出了能制造22nm芯片的光刻机。

虽然中国在光刻机技术上有了一定的突破,但与荷兰企业的差距仍然很大,荷兰ASML的光刻机已经能制造5nm工艺的芯片。然而,中国现在有了一个好的开端,相信在不久的将来,中国的光刻机技术能再上一个台阶。

目前,中国的科技水平已经今非昔比,美国和其他西方国家必须要意识到这一点,合作共赢才能共同发展。然而,美国还在制裁中国科技企业的发展,打铁还需自身硬,只有自己掌握核心技术才能立足于世界。

本文源自头条号:淡淡的香气

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