国产光刻机造出来了吗?什么水平?专家:180nm工艺试用阶段

在半导体领域中,芯片的地位可以说是牵一发而动全身,一个没有”大脑”的产品,什么功能都实现不了。芯片太重要了,自然而然成为兵家必争之地。而在这一赛道上一路领先的美国掌握了话语权,拥有对全球半导体市场的生杀大权。最典型的例子莫过于华为,9月15日之后,美国升级了断供规则,直接让华为无芯可用,因为华为有设计芯片的能力,却无法大规模生产。

很多人寄希望于国内的芯片制造商,华为被人家欺负成这样,自己人怎么能置之不理呢?实际上,不管是台积电还是中芯国际,生产设备中都含有一定比例的美国技术,一旦美国动起真格,它们也只能爱莫能助。

国产芯片制造主要卡在一个环节上——良品率,毕竟芯片需求都是以百万计,残次品占比提高零点几个百分比,都是一笔非常可观的损失。目前,提高良品率最行之有效的是ASML的EUV光刻机,遗憾的是,它们家的光刻机有部分技术源自美国,受美国实体清单的影响,根本没法卖给中国。

有人说干脆咱自己造!这句话没毛病,新中国刚成立那会儿,一没技术二没资金,不就是一步一个脚印干出”两弹一星”、”北斗系统”等项目吗?实际上,早在2008年,国家就启动了扶持芯片设备的项目,计划连续投资十年。那么目前国产光刻机出来了吗?它又是什么水平?一位半导体产业专家坦言,目前国内能造出180nm制程的光刻机,目前尚处于试用阶段!

按照制程,光刻机工艺可以分为180nm、90nm、65nm、45nm、22nm、14nm、7nm等,在这领域一路领先的ASML已经造出5nm制程的光刻机,也就是说,国产光刻机落后全球至少5代左右。

好消息是,国内半导体领域巨头华为也将布局芯片制造,据外媒报道,华为将厂址选在了上海,并将在明年争取实现45nm芯片量产。这是一个积极的信号,国产光刻机进展一定不会太快,但至少是一步一步在往前走。相信国产半导体拧成一股绳,一颗100%的中国芯指日可待!

本文源自头条号:听我talk科技

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