中科院公开发声:打破ASML5nm光刻机垄断,这是误读

本文原创,请勿抄袭和搬运,违者必究

国产光刻机突破5nm?

受到芯片,半导体等集成电路领域产业的兴起,很多人都在关注半导体行业的现状,也了解了很多芯片大概是怎么回事,知道华为海思,高通是全球顶尖的芯片设计公司,明白了台积电是全球最大的芯片代工企业。

但是除了这些之外,在芯片界科技含量最高,集成度最复杂的还是光刻机。一台光刻机10万个零部件,普通的汽车也只有几千个零部件。

相差的不是一点两点,尤其是高端EUV光刻机,ASML每年的产量都十分有限。用EUV光刻机才能够制造5nm芯片,所以一台5nm光刻机的重要性不言而喻。

联系到中科院要布局光刻机,把光刻机,芯片等技术列为科研清单,让国内一众民众欢呼雀跃。

而且之前中科院网站上也发布了一篇关于“5nm光刻技术获突破”的论文更是让网友沉不住气了,纷纷发布国产光刻机突破5nm,打破ASML 5nm光刻机垄断等话题。认为中国已经能打造出能生产5nm芯片的EUV光刻机了。

那事实是怎样的呢?对此发布该篇文章的中科院研究员作出了回应,并表示这是误读。

中科院做出回应

“5nm光刻技术获突破”的相关论文发布在网上以后,迅速引发网友的热议。但随后这篇文章被删除,因为存在一定的误解。据该文作者,中科院研究员刘前表示,这项技术和高端光刻机采用的EUV技术是两回事。

刘前还解释说到,中科院研究的5nm超高精度激光光刻加工办法的用途是用在制作光掩模,在是光刻制作不可缺少的一部分。

但想要因此打破ASML在EUV光刻机的垄断,还有很多技术要突破,比如镜头数值孔径,还光源的波长等等。

由此可见,制作一台EUV光刻机,仅仅是掌握其中的一项技术还无法做到完全打破垄断的地步。就好比一台汽车,由发动机、变速箱、中控、方向盘等多种重要零部件组成,不能说其中一家供应商生产提供了方向盘,就具备制造整车的能力。

中科院公开发声,做出回应,所以在发布看法和意见之前,还需要对真相有所了解。当然,5nm超高精度激光光刻获得突破也是一件值得高兴的事情,一点一滴积累,到最后实现更高技术的突破,甚至真正打破垄断。

厚积薄发

在了解了事情的真相以后,不得不产生疑问,我国的光刻机到底是什么水平?

首先按照制程来划分,可以分为180nm、90nm、65nm、45nm、22nm、14nm、7nm等工艺,据悉,ASML的EUV光刻机已经能实现5nm制程,并且正在向3nm、2nm甚至是更低1nm做出了规划。

而据半导体资深人士向AI财经社透露,我国目前可以实现180nm制程,而且还是在试用阶段。

国内最大的光刻机设备制造商还有一台没有量产的90nm制程光刻机,采用的光源技术还是外企20年前的水平。由此可见,想要真正达到EUV光刻机水平,还远不是现在能达到的。

十年甚至是更长的时间,我们也不需要气馁,因为厚积才能薄发。现在的我们一直在进步,落后的功课也一定能补上。在全面发展的同时也是直面自己的问题所在,只有直到问题,才能对症下药,解决问题,最后实现厚积薄发。

总结

国产光刻机还有很大的进步空间,从一点一滴开始积累,ASML也是从一家无人问津的小企业到垄断全球高端光刻机的巨头。没有什么是不可能的,正所谓芯片是人造的,不是神造的,光刻机也是如此。

如今中科院已经宣布要布局光刻机了,国内半导体产业也正在加速,希望光刻机能尽早突破高端工艺制程。

对国产光刻机你有什么看法呢?欢迎在下方留言分享。

科技有趣味,带你了解新鲜科技事

本文源自头条号:趣味科技秀

标签