1nm光刻机!荷兰ASML传来新消息,台积电“喜从天降”

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1nm光刻机

在半导体行业中,光刻机起着重要的作用,想要量产高端的芯片需要依托在光刻机上面,也就是说光刻机对于芯片来说起着举足轻重的作用。

目前全球最为先进的芯片制程,已经达到5nm,在全球台积电以及三星都能够量产。并且台积电已经在3nm、2nm芯片上有了重大的突破。

但是全球有很多的半导体企业,对于芯片制程是否能够挑战更高的极限,充满了质疑。纷纷表示摩尔定律已经濒临尽头了,或者说成本太高,已经没有必要了,甚至还没开始就直接就判定了其结果。

不过并不是所有的人都是这么想的,比方说荷兰ASML公司,全球能够生产高端光刻机的就是ASML公司,一直与半导体机构IMEC还在不断的深耕这个领域。

看来摩尔定律也并非不可挑战,IMEC公司的首席执行官兼总裁Luc Van den hove,在近期的一次演讲上,提到了与ASML一直存在合作的关系,值得注意的是,表示将会共同把工艺规模缩小到1nm及以下。

IMEC公司总裁的发言,可以说极大的推翻了先前人们固有的想法,认为摩尔定律已经到达了尽头。并且这次ASML与IMEC的合作还是为了促进高NA EUV光刻机的商业化,并且预计在2022年得以完成。

芯片制程有望更进一步

芯片的重要性不言而喻,有人将芯片比作是智能设备的“心脏”,在科技界谁优先掌握了技术,谁就优先获得了主导的地位。

台积电是全球规模最大的芯片代工厂,同时芯片工艺也是最为领先的,因此台积电近年来在半导体行业中,也是混的风生水起,全球有不少的厂商都将芯片订单交给了台积电。

可以说台积电凭借的就是领先的芯片制程,在半导体行业,技术才是王牌。台积电不仅仅在5nm芯片制程上领先,甚至已经向更高的领域迈进。

在3nm、2nm芯片制程上,虽然目前荷兰ASML的EUV光刻机能够量产5nm芯片,但是随着更高精细的工艺,那么对于光刻机的要求也就越来越严苛了,就需要更先进的光刻机设备。

那么ASML还在光刻机这个领域继续深耕,并且已经获得了一定的突破,这也意味着台积电将没有后顾之忧,在更加精细的工艺上,之后也将会有更加先进的光刻机。

IMEC和ASML这两家企业携手共同要将工艺规模缩小到1nm及以下,那么对于台积电来说自然是一件极好的消息。因此说荷兰ASML传来新消息,台积电“喜从天降”。

当然一个技术的推进并不是一件容易的事情,都需要反复的推敲、实验,不仅在成本上,在精力上也需要付出很多。

从目前来看,台积电在芯片制程上早已经是遥遥领先了,不过三星也是虎视眈眈,甚至有一个十年的计划,就是为了超越台积电。看来科技界也是一个没有终点角逐。

写在最后

荷兰ASML传来了新消息,打破了摩尔接近极限的观点,这也意味着芯片制程还能更近一步,而不仅仅只是停留在3nm、2nm上。

这对于三星和台积电来说有设置了一个新的终点,这两家科技巨头,最终谁能够抢先占领技术的最高点还未可知。

目前在芯片领域,我国也已经开始深耕,有不少的企业纷纷入驻,就是为了芯片能够获得国产化,实现自给自足的局面。不过台积电的进步对于我国来说也是极好的,毕竟台积电也一直争取出货许可。

如果能够获得相关的许可,那么国内的一些科技企业的发展就不会受到阻碍,当然现在芯片自研才是未来的发展战略,只有将核心的技术牢牢的掌握在自己的手上,才能摆脱“卡脖子”的局面。

本文源自头条号:笨鸟科技

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