中国芯片迎来好消息!5nm光刻机技术获新生,专家:这只是开始

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光刻机领域一直都是我国主要研发的一个重大工程,而近日中科院也是传来了一个关于芯片方面的好消息,据悉我国目前已经在5nm光刻机的技术上取得了重大的突破,这也就意味着我们在这一领域上赢得了新生!

而说到我国在光刻机方面所取得的突破,那就不得不提起美国了,其实我们对于美国的限制还是还说一声感谢的,如果不少他们给予了我们如此巨大的压力,那么或许我们在光刻机的技术上就无法做到如此迅猛的突破,可能还需要花费更多的时间去进行研究。

此次我国在新型超高精度激光光刻技术上取得了突破,从某种意义上来说是一种超越,因为我们此次所突破的主要地方就在于,我们发现了一种不需要EVU就可以进行5nm特征的激光光刻,这样的发现无疑是令人震惊的,因为它涉及到了双激光的交叠技术,还有一些其他很多复杂的领域等等。

总而言之我国此次的突破对于我们在芯片技术上的发展可以说是有着至关重要的作用,这预示着我国已经开启了一条属于自己在光刻机研发上的道路,而伴随着中国科技产品的精密性越来越高,相信我国先进的光刻机将会在不久之后就能够诞生。

值得一提的是,对于此次突破我国的专家则是坦言表示:这只是开始而已!从专家们的态度当中也是能够看出,他们对于光刻机的诞生也是非常有信心的,只要我们中国团结一致,那么就没有我们过不去的坎,相信到那时候美国再也没有办法在这一领域上对我们形成限制了!对此,大家有什么想说的吗?

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本文源自头条号:开心两刻钟

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