中科院正式发声!打破ASML光刻机垄断是误读:到底什么水平?

【12月7日讯】相信大家都知道,自从华为、中兴“事件”以后,也让国内很多网友们对于全球芯片产业链布局有了更多的了解,例如华为海思、高通、苹果等是全球最顶尖的芯片设计公司,而台积电则是全球最大的芯片代工企业,三星、Intel则是全球实力最强的IDM芯片巨头,长电科技、华天科技、通富微电等则是全球实力最强的芯片封测企业,但实际上除了芯片设计、芯片制造、芯片封测这三大领域以外,还有很多巨头企业同样有着举足轻重的地位,它就是全球光刻机巨头—荷兰ASML,也是全球唯一能够生产制造EUV光刻机的厂商,确实在整个芯片产业链中,就数光刻机设备制造技术含量最高,因为整个光刻机设备中拥有数十万个零部件产品,并且每一个零部件产品都是科技含量最高、集成度最复杂的零部件产品,例如德国的蔡司半导体(Zeiss SMT)所提供的镜面—“布拉格反射器”,虽然直径大小只有30CM,但厚度方面却是薄的惊人,如果将这个“布拉格反射器”放大成云南省这么大,其介质层也只有1毫米厚,如此精密的“布拉格反射器”也被认定为全球最牛、最平滑的镜面技术;

或许也是因为高端EUV光刻机生产制造难度太高,导致ASML每年都只能够生产几十台EUV光刻机设备,数量十分有限,所以在台积电、三星、Intel等芯片巨头哄抢之下,也出现了“供不应求”的局面,其中三星掌门人李在镕亲赴ASML荷兰总部游说,就是为了获得更多的EUV光刻机设备,毕竟拥有更多的EUV光刻机设备,才可以生产制造更多的5nm芯片产品,在如今全球芯片市场大爆发的前提下,也有助于提高自己的芯片代工地位以及实力,所以一台5nm光刻机的重要性不言而喻。

其实目前我们也正在布局高端光刻机技术研发,尤其是中科院直接宣布:“布局光刻机,把光刻机,芯片等技术列为科研清单;” 对此很多网友们也非常期待,而在前一段时间,中科院更是直接在其官网刊登了一篇《5nm光刻技术获突破》的论文,对此也引发了很多网友们的高度关注,甚至不少媒体都在直接认为国产光刻机已经突破5nm工艺节点,直接打破ASML 5nm光刻机垄断等等,但我们是否真的可以生产出“国产5nm光刻机”呢?终于在近日,中科院正式对此做出了回应:“表示这是误读”;虽然这项技术并不是高端光刻机所采用的EUV技术,而是被用于制作“光掩模”,在整个芯片光刻制作过程中,也是不可缺少的一部分,

这次中科院正式对外公开发声,无疑也是消除了很多网友们的误解,当然5nm超高精度激光技术只能够用于制作“光掩模”,也同样是一件非常值得我们高兴的事情,因为在整个芯片产业链中,我们也在不断的攻克一项又一项技术难题,凭借现在的一点一滴积累,到最后肯定也会厚积薄发,实现更高技术的突破,真正打破垄断。

对此很多网友们也非常好奇,那我国的光刻机到底处于什么样的水准呢?

国内最大的光刻机设备制造商上海微电子已经拥有了90nm制程光刻机,距离顶尖的EUV光刻水准,确实还有很大的技术差距,但最起码可以确保低端芯片实现“纯国产化”,未来国产光刻机设备也是拥有更大的进步空间,因为中科院已经宣布要布局光刻机了,整个国产芯片产业链的技术研发都在不断的加速,小编也坚信正如比亚迪王传福所言:“芯片是人造的,不是神造的,光刻机也同样如此。”

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本文源自头条号:大爆炸科技

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