芯片到底有多重要?中国的28nm芯片制造工具步入正轨

芯片——现代世界的的大脑。前段时间,美国对中国的制裁措施就有很重要的——芯片。在这个现代化的社会,各种高新技术几乎都离不开一块高性能的芯片,它是一个机器的大脑。也是一个国家科技实力的地基。上海微电子装备股份有限公司将在2021年第四季度交付其第二代深紫外光(DUV)光刻扫描仪。该工具可以使用28nm制程技术生产芯片,并依赖于中国和日本生产的组件。因此,该工具不依赖于美国制造的设备,这在中美持续的贸易战中变得越来越重要,美国禁止中国公司购买某些类型的芯片制造设备。

中国有许多颇具竞争力的半导体生产商,它们使用在天下科技有限公司设计的制造技术在该国开发芯片。但是所有这些公司都使用在其他国家(例如日本,荷兰和美国)开发和制造的生产设备。

作为实现半导体行业自给自足的多方面计划的一部分,中国不仅鼓励芯片开发和本土制造,而且还支持半导体生产设备制造。

SSA600/20是一种浸没式深紫外光刻工具,配备了193nm的氟化氩(ArF)激光器。像英特尔和台积电这样的公司早在2004年就开始使用浸入式DUV光刻技术,所以SSA600/200很难被称为设备的前沿。

SSA600/20的继任者将继续使用ArF光源,但用于相当薄的工艺技术。Verdict公司称,这款即将面世的扫描仪保证足够先进,可以使用28nm制程技术制造芯片。显然,这些扫描仪可以用于40 nm级,以及55nm/65nm制造工艺,这是非常流行的多种应用。报告称,到2023年,SMEE公司想要生产出适用于20nm节点的足够好的机器。即将推出的扫描仪据说使用了日本制造的某些部件,但不使用任何来自美国的成分。

TSMC早在2011年就采用了ASML的28nm制程技术,所以即使SMEE在2021年第四季度推出了28nm制程扫描仪,它仍然比世界上最大的光刻工具供应商落后了十多年。与此同时,28nm工艺技术在今天得到了相当广泛的应用,并将在未来许多年继续用于不需要FinFET晶体管的芯片。例如,电视制造商康佳集团股份有限公司(Konka Group)上月披露,计划与江西省东部南昌市政府合作建设一个45亿美元的半导体工业园。电视和消费电子产品几乎不需要尖端的工艺技术,所以28nm节点对它们来说可能已经足够好了。因此,SMEE即将推出的DUV工具有望成为SMEE客户的重要工具。

上海微电子设备有限公司多年来一直在生产扫描仪,因此,该公司很可能将能够组装大量下一代扫描仪,以装备一家先进的工厂。与此同时,已经采用ASML和尼康扫描仪的28nm制程技术的芯片制造商可能不得不重新设计他们的节点,以使用SMEE的新工具。因此,尽管先进的中国扫描仪大约需要一年时间,但它们要被本土半导体行业广泛采用还需要相当长的时间。

SMEE公司的下一代ArF DUV扫描器,无疑是中国迈向半导体行业自给自足的一步。与此同时,为了不依赖海外技术,中国还需要开发一个更关键的因素:所有对现代芯片开发至关重要的先进电子设计自动化(EDA)工具都来自美国的公司。在中国公司能够开发出与Cadence、Mentor Graphics或Synopsys等公司竞争的工具之前,所有在中国开发的芯片都将使用美国的软件进行设计。

本文源自头条号:生态洞察

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