打破ASML光刻机技术无法复制的传说,西湖大学宣布“冰刻”

“天不怕,地不怕,就怕被人在芯片方面卡脖子”,9月15日,华为麒麟芯片断供,华为封禁正式实行,台积电、三星、高通等芯片供应巨头将不能和华为合作,而几乎垄断光刻机技术的ASML企业也无法为我国提供光刻机。

阿斯麦企业宣布1nm光刻机基本完成,而1nm光刻工艺技术可以说是目前最为高端的光刻机,虽然目前台积电、三星等代工厂还在研究3nm工艺制程技术,1nm芯片的正式发布至少还要到2025年左右,而芯片光刻技术的卡脖子是我国芯片事业发展的一大阻碍。

“冰刻”挑战传统”光刻“

近日,西湖大学光学工程讲席教授仇旻在接受DeepTech采访时表示“现在我们已经可以在光纤末端做出较为复杂的微纳米级冰雕”。而且近期发布的三维微纳加工技术可以在头发丝八分之一细的光纤末端上进行“冰刻”加工,并且可以一次性雕刻上百件作品。

光刻机的卡脖子其中“光刻胶”也是我们需要突破的一大技术,而仇旻团队的研发项目正是对这一方面的突破,在零下140℃的真空环境下,让水蒸气凝华成无定形冰,而这项技术便是所谓的“冰刻”。

八年的研发,终迎来这一“冰刻”,从12年开始西湖大学团队便开始在此领域深耕,对原有的电子束光刻设备进行改造就足足用了5年,而对于冰刻,全球仅有两个团队在此方面做出研究,所以更多的技术需要自己去研发突破,可以说我国的技术突破就可以基本代表着全球范围内的技术,几乎就是原创。

写在最后

其实西湖大学自建校以来就是在为我国的科技方面的研发做努力,而此次“冰刻”技术的破冰,或许会将我国的光刻技术引领到一个更高的阶段,在冰刻方面的核心技术的突破,这不仅是一次全新的突破,更是未来光刻机方面的需求。

未来科研之路很长,核心技术的掌握是我们前进最大的支撑

本文源自头条号:海思麒麟芯

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