1965年我国就能制造光刻机了,为何如今光刻机发展却很落后?

1965年我国就能制造光刻机了,为何如今光刻机发展却很落后?

光刻机是现在很多人都知道的一个名词,这个很高端的设备因为美国的干预成为了掐住中国国产顶级芯片麒麟咽喉的利器。现在大家都知道光刻机的制造难度是很大的,尤其是手机市场现在需求最大的小纳米制程工艺的芯片,我们几乎没有办法通过自己的努力短时间摆脱这方面的制约。但是你可能不知道的是,论起历史的话,咱们国家的光刻机发展其实非常早。

早在1965年,中国经济总体上还处在比较落后的状态的时候,科技领域就传来了一件大事那就是中国已经可以制造光刻机。但是需要知道的是,当时的光刻技术和现在相比肯定是很落后了,但是假如中国从那个时候就开始将这个产业或者说这种设备的研发进行下去的话可能现在中国也会是一个光刻机的重要大国。只不过,在光刻机发展的决策上,我们犯了一些错误。

首先,人们对于科学技术认识上的偏差。

早些时候人们可能也是受到时代的影响,在科学领域方面的自我保护意识特别的强烈。作为从美国归国的著名科学家杨振宁就发现了一个非有意思的现象。他回国之后去了两座城市两个不同的研究所进行参观和学习。这两个研究所对他的到来真的非常欢迎和热情。基本上想看啥都行。但是他却惊奇地发现,明明研究的就是性质完全相同的东西,但是他们双方却完全保密,那为什么对外国人不保密呢?难道他们就不怕两边的优势都叫人家看了去吗?也许是当时的人们没想到吧。

其次,自主创新意识冲到国际引进的巨大冲击。

实际上在1985年的时候,咱们国家研发成功的分布光刻机和美国最先进的金属之间差距也不超过十年。但是就在这些年,一股又一股的对外开放浪潮开始席卷了整个科技界。在芯片领域非常明显的就是两样东西,一个是光刻机,一个是芯片测试软件。

咱们国家早先是拥有自己的芯片测试软件的,这个软件的研发甚至还得到了国际大奖。但是外资的低价进入是的中国本土的软件发展开开始变的步履维艰。人家带来的是低价格高性能的产品,而咱们的产品可能还有一定的差距,加上相关销售人员和鼓吹,所以很多当时中国原本可以继续研究的项目都在这个时候纷纷下马。

光刻机也是在这个时候开始停滞不前的。我们在那个年代的技术是193纳米量级,而在这个量级上整整停滞了20年时间。20年的时间足以让世界在科技方面改头换面,昔日的光刻机早就已经落后,而那些专门研究光刻机的企业和技术型公司已经开始强势崛起。这就是廉价科技倾销带来的后遗症。

虽然从21世纪开始我们已经意识到了这个问题并且开始奋起直追,但现实就是即便是我们已经打破了光刻机工件台方面ASML的垄断,但是在这个设备上依旧可能要落后超过10年的时间。光刻机技术依旧是我们科技发展的一个痛点,对此您怎么看?

本文源自头条号:知识酷儿

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