没必要唱衰!国产28nm光刻机有望明年交付,绕开美技术

阿斯麦实现1nm光刻机!国内有望明年交付28nm光刻机

看到这样的对比,也就能够理解网上为什么会有那么多人开始唱衰国内半导体领域,因为在很多地方,我们都是处于落后状态。

此前华为任正非也说过,国内半导体问题在于基础产业。而我们在科技方面的短板也在这次制裁中暴露出来。国内一边在奋起直追,一边在攻克太多难关。

不得不说的国内有望明年交付28nm光刻机

就在昨日有媒体报道称上海微电子设备公司(SMEE)采用国产以及日本零部件研发的28nm第二代深紫外(DUV)光刻机有望在2021年4季度实现交付。值得注意的是,这台光刻机的生产和研发,都是100%绕开美技术的。

长久以来光刻机领域一直被荷兰巨头阿斯麦所垄断着,而就在第三届中国国际进口博览会上,阿斯麦展出了其可用于生产7nm及以上制程芯片的DUV光刻机。而且也曾表示部分光刻机是可以供给国内的,据阿斯麦相关负责人表示ASML累计向国内输送了700多台光刻机。

让网友讨论比较激烈的是,上海微电子明年所交付的这台光刻机,依然落后于ASML将近10年,这个时候网上有两种声音,一个是恭喜,另一个就是说:太慢了!

就目前进度来看确实和ASML有很大的差距,但是我国知名存储芯片制造商长江存储科技(YMTC)已经提出,要将芯片生产设备的国产比例大幅提高至70%(目前约为30%),换句话说,上海微电子这是在补充国内空缺市场,提高国产化,其背后的意义更为重大!

华为的45nm与40nm以上成熟支撑占比约为37%

此前龙芯总设计师表示,我们没必要学美那样,人家做5nm我们就跟着去做,其实14/28nm在90%以上的应用都能够使用。

而前不久华为也是被爆出将会在上海建立起一座芯片厂,并有消息指出将会从45nm做起,一时间也是各种声音,大体就是说太慢了,人家都是5nm,这样做华为何来的竞争力。

其实很能够理解网上这种声音,毕竟我们想要实现超越甚至是”弯道超车”,但事情远不是大家所想。就从市场来看,胡伟武讲的也没有错。比如从根据IC Insights发布的《2020-2024年全球晶圆产能》报告中我们可以看到,哪怕是到了2024年,10nm以下先进制程市占率将增长至30%,10nm-20nm市占率约为26.2%,40nm以上成熟支撑占比约为37%。

市场与转机想并存,那么看不上国产28nm光刻机和45nm制程的,或许多应该从实际问题出发思考,为什么会是这样。

就像一些网友说的那样,国内半导体在很多基础方面比较欠缺,脚踏实地补齐短板才是正理,老是想着”弯道超车”,不如干点实事。

而国内也是在积极攻克难关,比如此前的中科院将光刻机列为任务清单,中芯国际实现N+1制程流片,按照上海微电子的计划,到2023年将会生产出足以满足20nm芯片工艺节点的光刻机。

中国芯道路漫长,我们一直在努力!

本文源自头条号:隔壁王科技

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