荷兰ASML突破1nm,对比国产光刻机真实水平,差距不容忽视

数据显示,在2019年全球光刻机市场中,荷兰ASML占据了74%的份额,垄断地位十分明显。今年以来,尼康光刻机业务遇挫,在二、三季度仅售出9台光刻机。由此来看,ASML的市场份额有望进一步增长。

而在EUV光刻机市场中,ASML更是实现了100%的垄断,当前全球最顶尖的光刻机,仅ASML能够制造。

近来,ASML更是又实现新突破,令人瞩目。ASML合作公司IMEC的首席执行官近日表示:ASML已经基本完成作为NXE:5000系列的高NA EUV曝光系统的基本设计。

据悉,NXE:5000系列可实现3nm,乃至更高制程工艺芯片的生产。而且,IMEC首席执行官还透露,该系统预计在2022年进行商业化。

同时,其还公布了3nm到1nm的小型化线路图。由此看来,ASML的1nm光刻机已经提上了日程,十分令人期待。

不过,ASML的这一进步,又将中外光刻机之间的距离进一步拉大。

据AI财经社消息,半导体产业资深人士表示,我国光刻机技术当前只能实现180nm制程,而且还是在试用阶段。由此可见,中国光刻机与海外的差距不是一星半点,令人担忧。

光刻机行业人士表示,目前上海微电子能实现90nm制程光刻机,但没有做到量产,而且用得也是海外20年前的光源技术。中国光刻机产业还有很长的路要走。

中国光刻机如今的落后状况,并不完全是技不如人导致,与产业环境也有着重要的关系。据半导体人士透露:“送给别人用,别人都不愿意花时间,天生觉得你不行。”

国产设备长时间来不被看好,因此没有客户愿意配合使用与测试,这在一定程度上阻碍了中国光刻机产业的发展。

其实,这一思想在80年代改开之后,便已经存在。当时,不少国人面对海外先进产品、技术等,产生了“造不如买,买不如租”的短视思想。由此,中国多个科技领域的发展,出现了几乎停滞的境况,光刻机便是其中之一。

直到华为被美国制裁,才让许多人惊醒,原来只有自己掌握了核心技术才最稳妥,才不会被他国卡脖子。

好在,国产芯片等众多科技产业,已经开始了对核心技术的攻克,相信在不久后,中国芯片产业的自给率会大大提升,并出现更多自主化研发成果。

文/BU 审核/子扬 校对/知秋

本文源自头条号:海西商界

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