华为可以长舒一口气了,新一代国产光刻机即将交付

文 | 考拉科技馆 排版 | 考拉科技馆

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华为可以长舒一口气了,新一代国产光刻机即将交付!

都知道,在芯片的生产过程中,光刻机是不可或缺的设备。但遗憾的是,在光刻机领域,我国不仅没有占据优势,反而还处于劣势。目前,国内能独立制造的光刻机为90nm光刻机,整体水准比之国际光刻机巨头ASML所生产的EUV光刻机要差好几个档次。

当然了,荷兰ASML能成为光刻机市场的巨擘,除了其本身确实拥有不俗的实力外,还离不开西方一些国家的支持。像EUV光刻机所用到的EUV光源是来自美国,轴承是来自瑞典、光学设备则是来自日本。正是因为有这么多国家的支持,ASML才能垄断全球80%以上的光刻机市场。

而我国呢?受1966年美日俄等40个国家联合签署的《瓦森纳协议》影响,每当我们要跟这40个签署《瓦森纳协议》中的某一个国家合作时,美国都会站出来进行干涉,阻止合作达成。如协议中的国家捷克曾计划向我们出口“无源雷达设备”,但在交易环节,却被美国搅黄了。

类似的例子在过去的数十年间还有不少,可以这么说,如果没有《瓦森纳协议》的存在,那我国在光刻机领域,绝对不会落后世界太多。

但可惜,现实没有如果。

当然,我们也没必要太过沮丧,既然西方国家不愿意跟我们分享技术,那我们就自己研发。曾经在通讯、铁路等领域,西方国家也对我们进行技术封锁,可最后,我们不仅没有因为被封锁而没落,反而还对西方国家实现了赶超。

就拿通讯来说,在华为等优秀的中国通讯企业的努力下,我们已经成功在通讯领域弯道超车西方国家。美国封锁到最后,不仅啥也没捞着,反而还在5G技术上落后于我们,简直是滑天下之大稽。

光刻机确实很难造,但这并不代表我们就造不出来。无数次的先例已经证明,只要中国愿意耗费精力去研究,那就一定能取得突破。

而事实也正是如此,多家国内媒体报道,新一代国产光刻机即将于明年正式交付使用,可用来生产28nm芯片,系上海微电子公司生产。虽然只能用来生产28nm芯片,但这台光刻机已经足以用来生产绝大多数芯片了。而且更为关键的是,这台28nm国产光刻机完全做到了绕开美国技术和设备,这是一次历史性的突破。

“华为可以长舒一口气了”!一些半导体领域的学者表示:28nm光刻机虽然谈不上特别先进,但已经足以抵消美国禁令给华为带来的大部分影响。

诚然,28nm用来生产麒麟手机芯片很勉强,但如果是用来生产华为自研的通讯及基站芯片,那还是绰绰有余的。

这台28nm光刻机的存在,将能在最大程度上保障华为主营的通讯业务不受美国禁令影响,华为可以长舒一口气了。

从90nm跨越至28nm光刻机,这是中国光刻机技术的一次巨大飞跃了,虽然仍跟西方国家有一定的差距,但也足以自傲。

此外,从上海微电子公布的计划来看,到2023年,该司将生产出可以满足20nm芯片工艺节点的光刻机,届时中国在芯片制造领域将更进一步。

正视差距才能缩小差距。现阶段,中国自产的光刻机确实比不上ASML的EUV光刻机,但在未来,谁又敢轻易断言中国无法实现弯道超车呢?


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本文源自头条号:考拉科技馆

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