全球光刻机真实水平曝光!ASML突破1nm:那国产光刻机呢?

【12月10日讯】相信大家都知道,在最近一段时间,被称之为全球最牛的光刻机巨头—荷兰ASML再次带来了重磅消息,目前荷兰ASML公司已经完成了1nm光刻机设计,而这款1nm光刻机设备将会在2022年实现商用,但就在荷兰ASML公司官宣“好消息后;” 国内众多科技媒体在报道“中科院辟谣时,直接提到国产光刻机的水平还维持在180nm水平;”对此也有很多网友们质疑到:“上海微电子不是已经有90nm的光刻机吗?难道真的还停留在180nm工艺水平吗?”

目前主流的光刻工艺共有180nm、90nm、65nm、45nm、22nm、14nm、7nm、5nm以及刚刚公布的1nm工艺等,但在光刻机设备中,并没有所谓的光刻机工艺节点,一般都表达为适用于多少工艺芯片的生产,比如目前ASML公司所生产的EUV光刻机设备,不仅仅可用于7nm EUV工艺芯片生产,同时也可被应用至5nm芯片生产,所以很多媒体以及网友们就认为荷兰ASML的EUV光刻机水平达到了5nm工艺,那么我们的国产光刻机到底可以达到多少工艺水准呢?

根据相关资料信息显示,目前国内实力最强的光刻机厂商—上海微电子,在上海微电子的官方网站上也呈现了所有的光刻机设备介绍,在最新产品介绍中,目前上海微电子最新生产的型号为SSA600/20的光刻机设备,已经可以达到90nm分辨率,通俗点讲就是可用于90nm芯片的生产制造。

这意味着,目前国产光刻机的真实水平并非是180nm工艺,而是90nm工艺,此前众多科技媒体所报道的180nm工艺的光刻机,是来自于中科院研究的光刻机设备,当然目前上海微电子的可生产90nm芯片的光刻机设备,相对于ASML公司的5nm工艺水准,还是有着很大的技术差距,尤其是在ASML公司官宣攻克了1nm工艺技术难题后,我们无疑还要继续努力,不能够让彼此之间的技术水平差距持续扩大。

最后:针对目前国产光刻机的真实水平,各位小伙伴们,你们觉得我们还有机会实现逆袭反超吗?欢迎在评论区中留言讨论,期待你们的精彩评论!

本文源自头条号:搞机二师兄

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