中国芯未来!DUV光刻机解了燃眉之急,中国芯片发展艰难?

光刻机工作原理类似于洗照片,利用类似照片洗印的技术,将掩膜版上的精细图形通过光线印在硅片上,这就是芯片的形成,因为这样的工作原理,光刻机也被称为曝光系统、光刻系统、掩膜对准曝光机等。光刻机的性能是芯片的生产质量的重要保障,我国除了在航发领域存在短板外,在光刻机领域也存在缺陷,这也在一定程度上影响了我国芯片的研发。因此为了促进我国芯片发展,只能从西方发达国家进购。

光刻机作为世界工业最精密、科技含量最高以及用途最广泛的机器之一,它也是分三六九等的,由于各国出于对核心技术的封锁,因此中国想要获得国外的最先进的光刻机是困难的,于是我国退而求次之,选择了比EUV光刻机性能低的DUV光刻机,他们都是由顶尖光刻机大国荷兰研发的,然而性能却有着很大差别。

首先在芯片制造光束上,DUV光刻机使用的是深紫色光束,它的准分子激光达到了193纳米左右,反观EUV光刻机,它使用的是极紫外光,准分子激光在10——15纳米左右,可以批量生产5纳米制成芯片和7纳米制成芯片,单从这一点进行对比,两者差别显而易见。虽然如此,但是DUV对于中国来说已经是解了燃眉之急了,这也会我国芯片发展提供一定的帮助。

虽然中国在DUV光刻机的助力下已经能够生产出14纳米制成芯片和12纳米制成芯片,但是与世界第一芯片制造公司台积电仍然存在差距,中国芯片才刚刚起步,而台积电已经利用EUV光刻机生产出了7纳米制成芯片,以台积电的雄厚基础,往后的发展恐怕会将与中国的距离拉大,然而我国企业也不会就此灰心,以我国对芯片领域的重视,往后中国的芯片发展只会越来越好。

本文源自头条号:环球次位面

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