国产芯片巨头打破瓶颈,绕开荷兰EUV光刻机,实现8nm技术

光刻机无疑是目前掣肘我国芯片产业的重要设备,制约了我国芯片生产环节的发展。想要制造更高精度制程芯片,离不开高精度光刻机。

近日有报道称,为推动EUV相关工艺制程进展,台积电到2021年底时,将累计拥有55台EUV光刻机。

可见高端光刻机的重要性。与即将坐拥55台EUV光刻机的台积电不同,身为中国大陆第一代工巨头的中芯国际,却迟迟等不到一台ASML光刻机。

在2018年,中芯国际便向ASML订下一台光刻机。然而,2018年、2019年ASML EUV光刻机总销量分别为18台与26台,却迟迟不给中芯国际发货。

不过,在没有高精度光刻机的情况下,中芯国际并没有放弃对更高制程工艺的追求。如今,中芯国际成功打破瓶颈,其第二代FinFET N+1工艺更是取得了进一步突破。

悉,第二代FinFET N+1与台积电8nm工艺相当,与上代相比,面积与功耗分别缩减63%与7%,并且性能大增20%。

中芯国际官方已经表示,第二代FinFET N+1目前在客户导入阶段,并有望于2020年末进行小批量试产。也就说,明年中芯国际8nm芯片有望实现量产,这将推动我国芯片产业向前一大步。

同时,中芯国际第二代FinFET N+2也正在研制之中,相信不久后便会有新的进展。目前,中芯国际最领先的制程为14nm,在2019年第四季度时实现量产。到今年第一季度,14nm已经占据了中芯国际1.3%的比例。

随着中芯国际14nm产能的不断提高,这一比例还将进一步提升。根据此前计划,到2020年末,中芯国际14nm产能有望达到1.5万片晶圆/月。近两年来,随着国家对芯片产业重视程度的提高,中芯国际更是愈发受到瞩目。

近段时间,中芯国际不仅获得两大国家级基金共计160亿元的增资,并且成功上市。最终,中芯国际实现超计划募资532亿元。

其中,中芯国际将拿出213亿元建设14nm生产线,用以扩大产能。其余资金则将用于补偿流动资金、先进与成熟工艺研发项目储备资金。

在多方助力与中芯国际自身努力下,国产芯片有望迎来曙光。并且,中科院院长白春礼已经表示,将集中力量攻克光刻机等卡脖子难题。可以预见,接下来中国芯片产业将进步高速增长阶段。

本文源自头条号:厦门名记

标签