ASML迫不及待亮出“底牌”?1nm光刻机精度“横空出世”?

大家都知道,一颗小小的芯片被生产出来,就直接影响了整个科技企业的“命脉”,不管是手机业务还是通讯业务,甚至是现在炙手可热的5G业务,都是离不开芯片的,而一块芯片设计三个主要环节,一是设计,二是制造,三是测封,目前能够做到将这三大板块融为一体的应该就是三星电子了,这也是目前全球市场上少有的一体化建设,正是因为全都揽在了自己的身上,所以三星在芯片制造方面,良品率还是要低于台积电生产的产品的。

而台积电作为全球第一大代工厂商,他的主要工作就是制造,前段时间有消息称台积电,已经把自己的技术突破到三纳米,甚至是两纳米了,可能在明年年底前就能够实现量产和实验了。当然制造也是需要工艺以及设备的,那就是有荷兰ASML生产的光刻机,其研发的EUV光刻机可以说是世界上最先进的光刻设备了,可是放在我国这个芯片的精准度是远不及asml的。眼看着现在我国正在积极的开展光刻机研发技术的工作,以及台积电在高精准度芯片方面的突破,ASML开始有点坐不住了。

就在近日迫不及待地亮出了自己的“底牌”,表示现在已经生产的更高精度的光科技研发,能够做到什么程度了?能够让你的芯片制造精度达到1.1纳米。本来asml就已经拿到了全球将近8%成的市场份额,而现在1纳米光刻机精度“横空出世”,让整个芯片市场的发展都紧张了起来。所以为了能够绕过光刻机制造芯片,我国已经开始了碳基芯片领域的突破发展,根据相关的信息能够了解到,碳基芯片一旦研发成功,其综合性能将达到由光刻机生产芯片的10倍左右,但现在有一个问题,就是这样的技术我们还没有能力获得,而且也不足以在全球市场上进行一个普遍的发展。但科技是要发展的,只有敢想才能敢做。

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本文源自头条号:七号人称说科技

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