中国芯的希望!中芯国际突破N+1工艺,向2nm工艺发起挑战

中国这些年来在国际上的地位越来越高,一方面是我国经济实力的强大,另一方面则是我国诞生了很多优秀的企业,特别是华为这些年的表现,5G技术的研发成功让美国人都非常害怕,因此对它实行了各方面的打压。

特别是在华为即将发布的Mate 40搭载的麒麟9000芯片的供应上,美国直接切断了华为的芯片来源,给华为出了一个很大的难题,然而困难也是机遇,美国的封锁让中国人开始研发自己的芯片,中芯国际前段时间宣布,已经突破N+1的工艺,开始向台积电2nm工艺发起挑战。

中芯国际目前是国内唯一一家掌握14nm芯片制造的技术厂商,14nm的工艺虽然和台积电的5nm、7nm有着很大的差距,但已经能够满足绝大多数芯片制造的要求,而中国为了摆脱对美国的依赖,提出了自己的一套思路——N+1工艺。

经过长时间的测试和研发,N+1工艺目前已经趋于成熟,再过不久就可以实现量产,N+1工艺和台积电的7nm工艺在性能上差别并不大,并且N+1工艺最大的好处就是没有用到光刻机

光刻机一直都是中国人心中的痛,自家研发不出来,只能花重金去购买别人的技术,而且还处处受限,N+1工艺研发的成功,也标志着中国芯未来的研发将更加自主化、本土化,各方面的技术也将由我们自己掌握,不再处处看别人的脸色。

N+1成功之后,中芯国际表现下一步的计划就是向2nm、3nm的工艺发起挑战,虽然目前定这个目标,想要实现的难度很大,过程可能也很漫长,但是万事开头难,只要迈过去这道坎,相信中国芯研发的道路,一定会越来越顺畅。

在中国芯的研发上,我们可以说毫无经验,就是一个从0-1的过程,然而这些年的突破让大家也逐渐看到了中国芯片的希望,相信未来中国芯片一定能够让每一个中国人都收益,再也不用看别人的脸色了。

本文源自头条号:香蕉的叶子

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