“中国芯”刻不容缓,华为事件敲响警钟,国产芯片时代会加速前进

科学技术日益渗透到经济建设社会进步和人类进步的各个领域,成为生产力中最活跃的因素。中国的发展离不开科学技术的进步,在尖端技术的掌控和创新方面,我国已经建立起坚实的基础,在一些重要领域已经走在世界的前列,像天宫一号、神州八号等。

但是,我国科技的总体水平同世界先进水平仍有较大的差距,同我国经济社会发展的要求还有许多不相适应的地方。要迅速提高我国的生产力水平,缩小与发达国家的差距,就必须加快发展科学技术。科学技术是第一生产力,一个国家的科学技术的水平的提高,能够使其在国际社会上不受他国制约。

还记得近期美国对我国的华为公司实行制裁,并针对华为的业务发展颁布禁令,甚至还限制台积电对华为进行打压。美国对华为实施的一系列制裁,虽然华为已经准备好了备胎计划和替代方案,但是由于华为海斯虽然已经实现了独立自主芯片,但是在制造的过程中还是要依靠美国的台积电。因此,还是对华为产生了消极影响。

通过这次华为事件,在一定程度上也给许多国内的芯片企业敲响了警钟,一定要尽早的实现独立自主制造芯片。进行芯片制造的首要环节就是必须要有先进的光刻机

因为光刻机的设备的技术含量直接决定着芯片的质量和制造芯片的速度。目前,世界上最先进的光刻机被荷兰的ASML公司所垄断。原本我国企业已经与ASML公司取得了商业合作,但是由于美国从中作梗,导致了合作中断。

据悉,荷兰ASML公司的首席财务官对中国出口光刻机表态,只能出口DUC光刻机给中国,但是如果有关光刻机的相关设备以及零件要从美国进口就需要得到美国准许。当前,中国正在努力研发光刻机。

今年5月,ASML与无锡高新区签署了战略合作协议,这已经是该公司在中国开设第4家分公司,其他三家分别在北京、上海、深圳,在美国封锁之下,ASML公司仍然保持这一态度,无疑是振奋人心。这一消息无疑吸取了全世界的目光,ASML无疑美国禁令,主动向中国释放善意。

无疑表现了美国在国际社会地位的降低。此前,中科院也表示将不断的努力研发光刻机,将困难转化为前进的动力,争取早日实现独立自主研发光刻机。

就在这时,一家上海微电子企业传来了好消息,已经成功的研发出28纳米的光刻机。根据该公司的工作人员介绍,他们所设计的光刻机预计在2021年就可以正式交付使用。随着大众的共同期待,该公司也在进一步的加快研发,希望能早点面向大众投入使用。

虽然该公司的光刻机设备在技术上还没法与荷兰的ASML公司的光刻机相比较,但是这也是我国独立自主研发芯片过程中的一个阶段性胜利。我相信,以这一代的光刻机为基础,不久之后,我们国家一定能够研发出能与ASML公司匹敌的光刻机设备,只是时间问题而已。相信在不久的未来,我们就会进入“国产芯片时代”。

本文源自头条号:兵器观察局

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